CVD法及等离子喷涂陶瓷涂层薄膜

现行制备Cr2O3陶瓷涂层薄膜的方法主要有溅射法,CVD法以及等离子喷涂热分解法.电弧离子镀(AIP)陶瓷涂层薄膜是在蒸镀和溅射镀膜技术的基础上逐步改进和发展起来的新型镀膜技术.它具有金属蒸气密度和离化率高、沉积速度快、膜层厚度均匀,靶位置不受限制、绕镀性好、工艺参数易于调节等优点,已广泛应用于工业生产中。

目前利用电弧离子镀法制备Cr2O3薄膜的研究较少本文利用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积Cr2O3陶瓷涂层薄膜.着重研究氧气流量和脉冲偏压对陶瓷涂层薄膜的组织结构的影响,初步研究了偏压对Cr2O3陶瓷涂层薄膜硬度的影响。